采用无刻蚀低温镀铁工艺，电源用KGDS-1200型可控不对称交—直流自动镀铁电源。主要性能是三相电网进线，主电路采用T型变压器，利用三只1000 A/200 V大功率可控硅可获得可控交流输出及可控直流输出。由于T型变压器副边绕组相位差90。，因此输出的整流波形为双峰脉动间歇波，这种波形有利于镀铁，这是因为双峰脉动间歇波能使工件得到比平均值大得多的电流密度，并使沉积速度大大提高。而在波形的间歇时间阴极膜中的离子可以得到足够的补充，从而得到接合牢固、齿轮泵平滑光亮的镀铁层。无刻蚀低温镀铁工艺。镀铁设备主要是电源及镀槽，宜用两个槽子：一个槽子电镀，一个槽子过滤。其工艺流程简述如下。a．检查零件镀铁部位的尺寸，是否有裂纹。b．清洗除油（可用汽油，碱水煮），严禁将油污带进电镀槽内。．上挂具。挂具要导电性好，在镀长零件时最好两端通电。d．绝缘。不镀部位可用塑料布或绝缘漆进行绝缘。e．打磨。，一般用砂布打出金属光泽即可。f．腐蚀。用稀盐酸对基体表面进行腐蚀，使表面活化呈灰白色。稀盐酸的成分与工件含碳量有关，对中碳钢采用含有so%的盐酸，对高碳钢采用含80%的盐酸进行腐蚀。g．浸蚀。将腐蚀完的零件立即用清水冲洗，挂入镀槽，用氯化亚铁腐蚀进一步活化表面，使零件与镀液温度平衡。h．交流对称起镀。用10～20A/dm2的电流密度起镀，时间2—4min，目的是使工件表面进一步活化，去掉零件表面的凸起，提高接合强度及镀层表面的i1i．交流不对称起镀。时间25～30min，正半波不变，负半波逐渐减少。．直流镀。从此开始计算沉积速度，电流密度可选15 -25A/drr12。